Cuadro de plomo para semiconductores
Detalles del producto
| Materiales: | Las demás partidas de cobre | Espesor: | 0.02 mm - 1.5 mm |
|---|---|---|---|
| Tolerancia: | +/- 0.005 mm | Proceso de producción: | Grabado fotográfico fotográfico, revestimiento, estampado, corte láser |
| Resaltar |
Conchas de grabado químico,Con un contenido de aluminio superior a 300 g/m2,Grabación química en semiconductores |
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Descripción del Producto
Grabado químico de metal para marco de plomo de cobre LC para semiconductores
Xinhaisen - 13 años de experiencia en grabado fotoquímico certificado ISO
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Especializado en marcos de plomo para semiconductores y componentes metálicos de precisión. Procesa materiales metálicos (acero inoxidable/cobre/titanio) con una tolerancia de ±0,01 mm. |
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Especificaciones del marco de plomo grabado para semiconductores
| Material | Aleaciones de latón |
| Aleaciones de latón | +/-0.005mm |
| Forma | Personalizado |
| Aplicaciones | Empaquetado de circuitos integrados (CI) para semiconductores |
| Técnica | Grabado químico, chapado, estampado, corte por láser |
| Característica | Sin rebabas, sin puntos rotos y limpio |
Ventajas clave del marco de plomo grabado para semiconductores
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¿Cómo obtener un marco de plomo grabado de nosotros?
1. Por favor, envíenos su diseño.
Aceptamos los siguientes formatos de archivo: DWG, DXF, PDF, Step, Gerber, IGES, CorelDraw y Adobe Illustrator
2. Plazo de entrega para la fabricación de muestras: 3-10 días
3. Express: Por DHL, Fedex, TNT, alrededor de 3-7 días.
Aspectos destacados del producto
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