Quadro de chumbo LC para semicondutores
Detalhes do produto
| Materiais: | Brass, Brass Alloy, Cooper, Copper Alloy | Grossura: | 0,02mm - 1,5 mm |
|---|---|---|---|
| Tolerância: | +/- 0,005mm | Processo de Produção: | Gravura Química Fotográfica, Chapeamento, Estampagem, Corte a Laser |
| Destacar |
Quadro de chumbo LC de gravação química de Cooper,Quadro de chumbo de metal semicondutor,Componentes de semicondutores gravados em cobre |
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Descrição do produto
Quadro químico da ligação do LC do tanoeiro da água-forte do metal para o semicondutor
Xinhaisen - 13 anos de especialista em gravação fotoquímica com certificação ISO
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Xinhaisen é especialista emgravação química de metal de alta precisão, fornecendo soluções avançadas de microfabricação para a indústria de semicondutores. Oquadro de chumbo LC de cobreé um dos nossos principais produtos gravados, fabricado com tolerâncias rígidas e precisão de linhas finas para garantir excelente condutividade elétrica e térmica em embalagens de IC e aplicações eletrônicas. Nosso processo de ataque químico é ideal para produzirestruturas de chumbo sem rebarbas e sem estressecom padrões complexos que a estampagem tradicional ou o corte a laser não conseguem alcançar. |
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Especificações da estrutura de chumbo de gravação para semicondutores
| Materiais metálicos: |
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| Faixa de espessura: | 0,02 mm – 1,5 mm |
| Largura da folha ou bobina: | até 600 mm |
| Tolerância de gravação: | ±0,01 mm (conforme desenhos) |
| Min. largura/espaçamento da linha: | 0,05 mm (conforme desenhos) |
Principais vantagens da estrutura de chumbo de gravação para semicondutores
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Processos Secundários Disponíveis
Além da gravação fotoquímica, oferecemos opções integradas de pós-processamento para atender às necessidades personalizadas:
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Chapeamento (ouro, prata, níquel, estanho)
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Marcação half-etch/gravação de logotipo
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Formando e dobrando
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Tratamento de superfície (passivação, limpeza)
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Produção contínua bobina a bobina
Capacidade do processo de gravação
Nosso avançadolinhas de gravação fotoquímicahabilitar:
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Precisão de padrão fino com bordas suaves e sem estresse mecânico
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Produção em massa consistente usando processamento bobina a bobina
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Projetos complexos e finos com microfuros e microcanais
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Prototipagem rápida para fabricação em larga escala
Produzimos não sóquadros de chumbo de semicondutores, mas também:
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Coberturas de blindagem EMI/RFI
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Malhas de filtro de precisão
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Coletores de corrente de bateria
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Placas trocadoras de calor
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Placas de fluxo microfluídicas
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Contatos do conector e calços de metal
Vantagens da Gravura Química
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Sem estresse mecânico ou deformação
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Bordas sem rebarbas com perfis limpos
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Ideal para materiais finos e delicados
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Alta flexibilidade de projeto e curto tempo de ferramenta
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Econômico para protótipos e produção em massa
Como gravar o quadro de chumbo de nós?
1. envie-nos seu design.
Aceitamos os seguintes formatos de arquivo: DWG, DXF, PDF, Step, Gerber, IGES, CorelDraw e AI.
2. Amostras fazendo prazo de entrega: 3-10 dias
3.Express:Por DHL,Fedex,TNT,em torno de 3-7 dias.
Destaques do produto
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