사진 화학 에칭 초박형 증기 챔버 생산 신속한 턴어라운드
제품 세부정보
| 재료: | 구리 또는 구리 합금 | 차원: | 맞춤형 |
|---|---|---|---|
| 에칭 방식: | 화학적 에칭 | 작동 온도 범위: | -40°C ~ 125°C |
| 표면 마감: | 매끄러운 | 품질 관리: | 100% 검사 |
| 강조하다 |
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제품 설명
화학 에칭 초박형 증기 챔버 제품 신속한 처리
증기 챔버개요
증기 챔버는 고급 전자 장치의 효율적인 열 관리를 위한 고성능 열 확산기입니다. Xinhaisen에서는 증기 챔버 플레이트 및 뚜껑의 정밀 금속 에칭을 전문으로 합니다. 당사의 공정은 탁월한 정확도로 복잡한 내부 심지 구조와 캐비티 특징을 생성하여 우수한 열 전달 및 방출을 가능하게 합니다. 고출력 애플리케이션에 이상적인 당사의 에칭 증기 챔버는 컴팩트한 공간에서 안정적인 열 성능을 보장합니다.
제조 공정
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재료 선택 및 세척: 고순도 구리 또는 기타 금속 시트를 꼼꼼하게 세척합니다.
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감광재 라미네이팅: 금속에 빛에 민감한 필름을 적용합니다.
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정밀 노광 및 현상: 디지털 포토툴을 사용하여 복잡한 심지 패턴과 챔버 윤곽을 금속에 노광하고 현상합니다.
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제어 에칭: 노출된 영역을 에칭하여 매끄럽고 버(burr) 없는 가장자리를 가진 정밀한 미세 채널, 기둥 및 캐비티 오목부를 형성합니다.
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스트리핑 및 검사: 감광재를 제거하고 각 구성 요소에 대해 엄격한 품질 검사를 수행합니다.
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조립 및 밀봉 (고객 또는 파트너 통합): 에칭된 플레이트는 일반적으로 파트너가 조립(용접/접합), 진공 처리 및 작동 유체 충전을 하거나 고객 사양에 따라 최종 증기 챔버를 형성합니다.
증기 챔버 특징
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초미세 심지 구조: 최적의 모세관 작용을 위한 복잡한 미세 채널 및 메쉬 패턴 에칭 가능.
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높은 평탄도 및 균일성: 열원(예: CPU, GPU)과의 완벽한 접촉을 보장하여 열 저항을 최소화합니다.
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맞춤형 캐비티 설계: 유연한 에칭으로 다양한 모양, 크기 및 내부 지지 기둥 레이아웃이 가능합니다.
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버(Burr) 없음 및 응력 없음: 에칭 공정은 기계적 응력이나 잔해물을 생성하지 않으며, 이는 진공 무결성에 중요합니다.
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재료 다양성: 산소 없는 구리(일반), 스테인리스강 또는 특정 호환성을 위한 합금으로 제공됩니다.
증기 챔버 사양
| 매개변수 | 사양 |
| 재료 | 구리, 합금 등 |
| 두께 | 0.02mm - 1.5mm |
| 최대 치수 | 맞춤 가능 |
| 허용 오차 | ±0.01mm |
| 표면 마감 | 요청 시 에칭됨, 도금됨(Ni, Au 등) |
증기 챔버 응용 분야
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고성능 컴퓨팅: 서버, PC 및 게임 콘솔의 CPU, GPU.
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5G 및 통신: 기지국 프로세서, RF 전력 증폭기.
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소비자 전자 제품: 스마트폰, 태블릿, 초박형 노트북.
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LED 조명: 고출력 LED 모듈 및 배열.
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전력 전자: IGBT 모듈, 전력 컨버터.
당사의 장점
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정밀 리더: 고급 심지 설계에 중요한 초미세 특징(0.015mm 라인) 에칭 전문성.
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빠른 프로토타이핑 및 대량 생산: 신속한 샘플부터 대량 주문까지 품질을 저하시키지 않고 속도를 보장합니다.
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높은 일관성: 첨단 공정 제어로 대규모 생산 배치 전반에 걸쳐 균일성을 보장합니다.
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원스톱 솔루션: 재료 소싱부터 정밀 에칭까지 핵심 금속 부품의 전체 제조를 관리합니다.
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입증된 전문성: 통신, 광학 및 항공 우주 분야의 고객이 중요한 정밀 부품에 대해 신뢰합니다.
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제품 하이라이트
화학 에칭 초박형 증기 챔버 제품 신속한 처리 증기 챔버개요 증기 챔버는 고급 전자 장치의 효율적인 열 관리를 위한 고성능 열 확산기입니다. Xinhaisen에서는 증기 챔버 플레이트 및 뚜껑의 정밀 금속 에칭을 전문으로 합니다. 당사의 공정은 탁월한 정확도로 복잡한 내부 심지 구조와 캐비티 특징을 생성하여 우수한 열 전달 및 방출을 가능하게 합니다. 고출력 애플리케이션에 이상적인 당사의 에칭 증기 챔버는 컴팩트한 공간에서 안정적인 열 성능을 보장합니다. 제조 공정 재료 선택 및 세척: 고순도 구리 또는 기타 금속 시트를 꼼꼼하게 ...
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