화학적 발사 인쇄 회로 열 교환자 사용자 지정 발사 금속 판
제품 세부정보
| 재료: | 스테인레스 스틸 또는 맞춤형 | 프로세스: | 포토 화학적 에칭 |
|---|---|---|---|
| 리드타임: | 1~2주 | 문서 파일: | DXF, CAD 또는 PDF |
| 판 두께: | 0.5 -5.0mm | 디자인 제한: | 날카로운 모서리 없음, 언더컷 없음 |
| 강조하다 |
티타늄 인쇄 회로 열 교환기,인코넬 625 인쇄 회로 열 교환기,정밀 pche 열 교환기 |
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제품 설명
화학 에칭 인쇄 회로 열 교환기 맞춤형 에칭 금속 플레이트
PCHE 개요
Xinhaisen의 화학 에칭 PCHE는 차세대 소형 열 교환기로, 중요 응용 분야에서 탁월한 열 성능을 제공합니다. 당사의 독점적인 광화학 에칭 기술을 활용하여 우수한 열 전달 효율을 달성하면서도 뛰어난 내압성을 유지하는 복잡한 마이크로 채널 패턴을 만듭니다.
PCHE 특징
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극도의 컴팩트함: 기존 열 교환기보다 최대 85% 작고 가벼워 중요한 공간과 무게를 절약합니다.
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고효율: 복잡한 마이크로 채널 설계는 부피 대비 넓은 표면적을 제공하여 최대 열 전달을 가능하게 합니다.
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뛰어난 내압 및 내열성: 일체형, 전체 금속 확산 결합 구조로 600 bar 이상의 압력과 극저온에서 900°C까지의 온도에서 작동할 수 있습니다.
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내식성 및 내오염성: 매끄러운 에칭 채널은 압력 강하를 최소화하고 오염을 방지합니다. 적절한 합금을 사용하여 부식성 매체와 호환됩니다.
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설계 유연성: 채널 패턴, 크기 및 플레이트 배열은 모든 용도(액체-액체, 가스-가스 또는 상변화)에서 최적의 성능을 위해 맞춤 설정할 수 있습니다.
PCHE 사양
| 매개변수 | 사양 |
| 재료 | 316L SS, 티타늄 등 |
| 작동 온도 | -200°C ~ +900°C |
| 작동 압력 | 최대 600 bar |
| 허용 오차 | +/-0.01mm |
| 플레이트 두께 | 0.5mm - 5.0mm |
PCHE 응용 분야
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석유 및 가스 / 석유화학: 가스 처리(LNG 액화 및 재기화), 황 회수, 해양 플랫폼, 소형 가스 압축 냉각.
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발전: 초임계 CO2(sCO2) 발전 사이클, 폐열 회수, 수소 냉각.
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항공 우주 및 방위: 환경 제어 시스템, 연료/오일 냉각, 고급 열 관리.
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산업 공정: 고압 합성 반응기, 폐열 회수 증기 발생기(HRSG), 폐쇄 루프 냉각.
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신재생 에너지: 수소 생산(전해조 냉각), 집광 태양열(CSP), 연료 전지.
당사의 장점
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핵심의 정밀도: 0.03mm까지의 미세 특징 에칭에 대한 입증된 전문성을 활용하여 완벽한 채널 정의와 열 성능을 보장합니다.
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속도 및 민첩성: 신속한 프로토타이핑 및 유연한 생산 능력을 통해 긴급 개발 프로젝트 및 대량 주문을 처리할 수 있습니다.
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수직 통합: 고품질 재료 소싱부터 최종 결합 및 테스트까지 전체 공정을 제어하여 신뢰성과 추적성을 보장합니다.
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비용 효율성: 효율적인 제조 및 소싱을 통해 PCHE에 필요한 고급 품질을 저하시키지 않으면서 경쟁력 있는 가격을 제공합니다.
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엔지니어링 파트너십: 고객과 긴밀히 협력하여 특정 열, 기계 및 재료 문제에 맞게 PCHE 설계를 맞춤 설정합니다.
자주 묻는 질문
- Q1: PCHE용 에칭 플레이트가 가공 플레이트보다 유리한 점은 무엇입니까?
예. 에칭은 깨끗하고 버가 없으며 산화물이 최소화된 표면을 생성하므로 당사의 플레이트는 추가 표면 처리 없이 직접 확산 결합 또는 용접에 이상적입니다. 에칭은 열 영향이 없는 버(burr)가 없고 응력이 없으며 균일하게 매끄러운 채널 을 생성합니다. 또한 기존 가공보다 훨씬 미세한 채널 형상(0.03mm까지)이 가능하며, 하드 툴링이 필요하지 않으므로 설계 변경이 빠르고 저렴합니다. - Q2: PCHE 플레이트에 어떤 재료를 에칭할 수 있습니까?
예. 에칭은 깨끗하고 버가 없으며 산화물이 최소화된 표면을 생성하므로 당사의 플레이트는 추가 표면 처리 없이 직접 확산 결합 또는 용접에 이상적입니다. 스테인리스강(SUS304, SUS316, SUS316L), 티타늄(Gr1, Gr2), 인코넬, 하스텔로이, 구리, 황동 및 고성능 열 교환기에 일반적으로 사용되는 기타 많은 합금을 에칭할 수 있습니다. - Q3: 달성할 수 있는 최소 채널 폭은 얼마입니까?
예. 에칭은 깨끗하고 버가 없으며 산화물이 최소화된 표면을 생성하므로 당사의 플레이트는 추가 표면 처리 없이 직접 확산 결합 또는 용접에 이상적입니다. 재료 두께에 따라 0.03mm 까지의 채널 폭과 0.015mm 까지의 리지(벽) 폭을 달성할 수 있습니다. - Q4: PCHE 프로토타입 플레이트의 일반적인 리드 타임은 얼마입니까?
예. 에칭은 깨끗하고 버가 없으며 산화물이 최소화된 표면을 생성하므로 당사의 플레이트는 추가 표면 처리 없이 직접 확산 결합 또는 용접에 이상적입니다. 프로토타입 샘플은 일반적으로 설계 승인 후 3~7영업일 이 소요됩니다. 대량 생산 리드 타임은 7~15영업일 이며, 긴급 주문의 경우 신속 옵션을 사용할 수 있습니다. - Q5: 에칭된 플레이트는 확산 결합에 사용할 준비가 되었습니까?A:
예. 에칭은 깨끗하고 버가 없으며 산화물이 최소화된 표면을 생성하므로 당사의 플레이트는 추가 표면 처리 없이 직접 확산 결합 또는 용접에 이상적입니다.언제든지 저희에게 연락해 주십시오!
제품 하이라이트
화학 에칭 인쇄 회로 열 교환기 맞춤형 에칭 금속 플레이트 PCHE 개요 Xinhaisen의 화학 에칭 PCHE는 차세대 소형 열 교환기로, 중요 응용 분야에서 탁월한 열 성능을 제공합니다. 당사의 독점적인 광화학 에칭 기술을 활용하여 우수한 열 전달 효율을 달성하면서도 뛰어난 내압성을 유지하는 복잡한 마이크로 채널 패턴을 만듭니다. PCHE 특징 극도의 컴팩트함: 기존 열 교환기보다 최대 85% 작고 가벼워 중요한 공간과 무게를 절약합니다. 고효율: 복잡한 마이크로 채널 설계는 부피 대비 넓은 표면적을 제공하여 최대 열 전달을 가...
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